定位點

435國際藝術村駐村藝術家成果展

公告日期:2011-11-15

1.2萬

新北市板橋區公所邀請國內外優秀藝術家進駐創作,本屆成果展規劃展出裝置藝術.動立雕塑.立體纖維雕塑.複合媒材.新媒體.平面藝術等多元作品
展出時間:100年11月15日至30日
展出地點:435藝文特區(新北市板橋區中正路435號)
展出藝術家:徐薇蕙.崔惠宇.陳萬仁.Chung HyeRyung.邱銍韋.林育正

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